真空获得

CXF-200/1402

产品特点

  • 节能:无摩擦,避免摩擦热损耗、较其它类型产品能耗降低30%
  • 高效:更长的连续工作时间、高气流量和高抽速
  • 灵活:紧凑型结构,满足更小的物理空间需求、任意角度安装,适合各种设计需求、丰富扩展功能,满足客户定制化需求

应用领域

科学研究加速器碳化硅晶体晶振光伏Low-E玻璃镀膜ITO镀膜光学镀膜装饰镀膜平板显示真空炉电真空新能源新材料真空干燥低温制冷薄膜沉积刻蚀离子注入光刻电子器件
  • 技术指标
  • 尺寸
  • 产品特性
  • 配件
  • 下载
  • 进气口法兰
    DN200 ISO F(标配)  DN200 CF(可选)   DN200 LF(可定制) 
    排气口法兰
     KF40
  • 抽速速率(L/s)
    N2:1400   Ar:1300    He:1100    H2:820
    压缩比
     N2:>1E8    Ar:>1E8    He:>1E4    H2:>1E3
  • 极限压强(Pa)
    1E-7(橡胶密封)   1E-8(金属密封)  
    最大瞬时入口流量(sccm)
    1200
  • 保护气入口法兰(选配)
     KF10
    推荐保护气体流量
    20
  • 最大允许磁场强度
    径向:3  轴向:15
    额定转速(rpm)
    33000
  • 启动时间(min)
    ≤7
    停机时间(min)
    ≤9
  • 冷却方式
    水冷
    冷却水流量(L/min)
    2
  • 推荐冷却水温度(℃)
    20±5
    电源电压(V AC)
     220±10%,50Hz          110±10%,60Hz
  • 适配电源型号
     CXFD-1001
    建议前级泵
     ≥16
  • 重量(kg)
    51
    文件名 类型 语言 日期 文件大小

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